产品简介

OSAKA大阪真空 分子泵 多泵易排布
**大阪真空面向量产设备配套、高载气通量场景的一体化五轴磁悬浮复合涡轮分子泵**，属于中大型抽速段主力机型，对标普发、爱德华、岛津同档次大流量磁悬浮分子泵；**主打设备整机集成，不是实验室分析型超高真空泵**

OSAKA大阪真空    分子泵   多泵易排布

OSAKA大阪真空    分子泵   多泵易排布

**大阪真空面向量产设备配套、高载气通量场景的一体化五轴磁悬浮复合涡轮分子泵**，属于中大型抽速段主力机型，对标普发、爱德华、岛津同档次大流量磁悬浮分子泵；**主打设备整机集成，不是实验室分析型超高真空泵**

特点 & 优势

1. 电源控制器一体化：泵体底部集成驱动、控制板，无需外置控制器机柜、省去专用长驱动电缆，单相 AC200–240V 直入，大幅减少机台内部布线、节省机架空间，缩短设备装配工时，多泵密集布局优势明显

2. 自研五轴磁悬浮轴承：无油无接触、零润滑污染；任意角度安装（水平 / 垂直 / 倒立），低振动低噪音；支持低速待机模式，降功耗、延长轴承寿命；IP54 防护，适配洁净车间环境

3. 复合转子、高流量取向：转子流道优化，重气（Ar、N₂）通量强，允许持续大 sccm 载气通入，这是它和侧重 H₂压缩比的超高真空泵最大区别；同抽速级别重量更轻、功耗更低。

4. 工业总线齐全 + 安规合规：标配 EtherCAT、RS232/485、Profibus、DeviceNet；CE、NRTL、SEMI S2，直接满足半导体设备出货要求，方便对接 MES、上位机做状态监控、故障预警、数据追溯

应用场景

• 光伏镀膜、大面积 PVD 溅射、光学镜头 / 车载镜头镀膜、柔性膜镀膜

• FPD 显示非刻蚀工序（溅射、成膜）

• 真空环境模拟、空间模拟舱、真空测试腔体

• 普通薄膜设备、科研量产型镀膜设备

• 半导体、MEMS、SiC/GaN 化合物半导体干法刻蚀

• 使用 Cl、F 基卤素工艺气体，容易产生氯化物、聚合物、铵盐冷凝沉积物的制程

• 持续有气态反应副产物析出、保养周期压力大的刻蚀类设备