更新时间:2026-09-03
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Photonic‑Lattice 光子晶格应力仪依靠光子晶体偏振阵列芯片实现单次曝光全域双折射检测,没有电机旋转部件,操作流程相较传统旋转偏光设备更加简洁,但环境条件、样品夹持、参数录入、零点标定,都会直接影响相位差、光轴方位角的测量准确度,PA(低相位差)与 WPA(宽量程)机型在样品适配、参数模式上存在差异。
环境确认:环境温度控制 23±2℃,湿度 45‑65% RH,避免设备台面振动、强光直射,温度波动会造成光子晶体阵列芯片响应漂移。
设备上电,开启光源与控制电脑,运行测量软件;设备必须预热 10‑15 分钟,等待光源输出稳定,避免前期数据波动。
检查样品台、镜头表面,用气吹清除浮尘,禁止直接用手触碰光学镜头与光子晶体传感芯片。
PA‑300 侧重 0‑130nm 低相位差玻璃、基板;WPA 系列用于 0‑3500nm 高相位差树脂注塑件,测量前确认软件测量模式与机型匹配。
台面不放任何样品,执行背景零点校准,消除光路本身固有双折射。
使用设备配套标准相位差校准片完成校验,将标准片置于视场中心,光线垂直入射,执行软件标定程序,确认标准片回读数值在允许误差范围内,再开展样品测试。
设备移位、长时间停机后、环境温度明显变化,必须重新做零点与标准片校验。
样品表面清洁:清除指纹、油污、碎屑,表面污渍会带来散射,造成伪应力信号;透明薄膜、镜片优先使用无尘布配合无水乙醇擦拭。
装夹原则:夹具只夹持样品边缘,严禁压紧被测光学有效区域,夹持用力过大,会引入人为机械应力,导致测量结果虚高。
样品摆放:样品放平,保证检测光线垂直穿透样品待测区域,待测区域置于相机视场范围以内;曲面样品需要保证被测面尽量垂直光路,倾斜会引入额外相位差误差。
在软件中录入样品实际厚度,厚度参数错误,应力换算结果会出现明显偏差。
根据被测材质选择测量模式:低应力玻璃基板使用 PA 标准模式;PC、亚克力注塑厚镜片等高应力工件切换 WPA 多波长宽量程模式,规避相位缠绕问题。
调整曝光参数,图像亮度适中,不出现过曝饱和;过曝会直接破坏斯托克斯偏振分量计算,云图失效。
点击单次测量,设备无需旋转部件,数秒完成一帧全域采集,软件自动输出相位差云图、光轴方位角分布。
大尺寸晶圆、基板,搭配自动 XY 载台,开启拼贴扫描模式,分区域采集后软件自动拼接完整二维应力分布图。
在云图上选取感兴趣区域,读取最大最小相位差、平均值;可截取截面曲线,查看某一条线上应力变化。
对比标准阈值,识别浇口应力、边缘应力集中、薄膜褶皱等缺陷。
保存原始测量图像、云图报表,可导出图片、CSV 数据,用于工艺对比、质量归档。
取下样品,清理样品台,确认台面上无碎片、粉尘。
先关闭测量软件,再关闭设备光源电源,最后关闭计算机;长期不用,盖上设备防尘罩。
PA 系列:适合玻璃、蓝宝石、低应力光学元件,不要用来测量大相位差注塑件,超出量程会出现数据混乱。
WPA 宽量程机型:针对树脂高分子,开启多波长算法;但不代表可以无视样品厚度,厚度参数依旧需要准确录入。
跳过预热、不做零点标定直接测样,造成整体数据偏移。
夹具压紧样品光学有效面,引入额外机械应力,得到虚假应力结果。
样品倾斜摆放,光线斜入射,带来额外双折射干扰。
样品表面残留指纹油污,散射光产生伪应力云图。
PA 机型强行测量超量程高相位差样品;WPA 不切换宽量程模式测量树脂件,出现相位缠绕。
镜头、光子晶体传感芯片用手直接触碰,造成光学器件损伤。
测量过程敲击、震动设备台面,影响偏振采集精度。
规范完成预热、标定、样品装夹、参数录入,就可以充分发挥 Photonic‑Lattice 光子晶格应力仪高速全域成像的优势,稳定获取透明材料真实的二维双折射应力分布。